(UFI)極紫外（EUV）阿秒多層反射鏡

簡要描述：UltraFast Innovations (UFI)極紫外（EUV）阿秒多層反射鏡
設計用于65eV（19nm）下的 330 阿秒脈沖
具有38%峰值反射率的多層鍍膜
≤1Å 表面粗糙度超拋光基底
另外提供專為 13.5nm 設計的極紫外（EUV）平面反射鏡和極紫外（EUV）球面反射鏡
備有現貨庫存
無最小起訂量、無鍍膜批次費用

Name: (UFI)極紫外（EUV）阿秒多層反射鏡UltraFast Innovations
Brand: Edmund Optics
Availability: InStock

基礎信息

產品型號

UltraFast Innovations

廠商性質

經銷商

更新時間

2026-01-05

瀏覽次數

1561

產品分類

PRODUCT CLASSIFICATION

反射鏡

柱狀反射鏡紅外反射鏡超快激光反射鏡啁啾反射鏡和高色散反射鏡離軸拋物面反射鏡反射平晶

單波長氦氖激光器：高速通信，搭建光信息橋梁

詳細介紹

品牌	Edmund Optics

UltraFast Innovations (UFI)極紫外（EUV）阿秒多層反射鏡通用規格:

直徑 (mm):

25.40 ±0.13

基底:

Fused Silica (Corning 7980)

后表面:

Commercial Polish

涂層規格:

Rs > 38% @ 65eV/19nm

涂層:

EUV Multilayer (19nm)

入射角 (°):

有效孔徑 (%):

設計波長 DWL (nm):

邊緣:

Fine Ground

表面粗糙度（埃）:

Center Energy (eV):

65 ±2

Bandwidth (eV):

Supported Pulse Duration:

330 attoseconds

邊緣厚度 ET (mm):

6.35 ±0.20

產品編碼	Dia. (mm)	表面平整度 (P-V)	基底
16-765	25.40 ±0.13	λ/10	Fused Silica (Corning 7980)
16-766	25.40 ±0.13		Fused Silica (Corning 7980)
16-767	25.40 ±0.13		Fused Silica (Corning 7980)

UltraFast Innovations (UFI)的極紫外光(EUV/XUV)阿秒多層反射鏡設計用于阿秒脈沖的轉向、聚焦和整形。他們的多層膜中心位于65eV（19nm），帶寬為6eV（1.8nm），為 S 偏振光提供38%的峰值反射率。這些反射鏡支持持續時間為330阿秒的極紫外（EUV）脈沖。 UFI極紫外（EUV/XUV）阿秒反射鏡是基于高次諧波（HHG）、自由電子激光器（FEL）或其他量子光學應用產生和整形阿秒脈沖的理想選擇。

UltraFast Innovations (UFI)極紫外（EUV）阿秒多層反射鏡原子般精密的離子束沉積可以獲得原子般光滑的鍍膜。這些反射鏡能夠在不斷增長的應用空間中高效精確地控制波長和光譜相位。亞秒科學突破了超快激光器的極限，提供了接觸一些最基本的科學過程的機會，如：電子的運動。極紫外（EUV）反射鏡也被稱為XUV/軟X射線反射鏡。極紫外（EUV）阿秒多層反射鏡背后的物理原理是來自多層膜堆疊的每個界面反射和散射 EUV 輻射的干涉。可提供直徑為25.4mm的平面反射鏡和凹面反射鏡；如果您的應用需要定制中心能量、帶寬或其他規格的極紫外（EUV）多層反射鏡，請與我們聯系。