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| 品牌 | Edmund Optics | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 光學元件 | 應用領域 | 綜合 |
UltraFast Innovations (UFI)極紫外（EUV）阿秒多層反射鏡
設計用于65eV（19nm）下的 330 阿秒脈沖
具有38%峰值反射率的多層鍍膜
≤1? 表面粗糙度超拋光基底
另外提供專為 13.5nm 設計的極紫外（EUV）平面反射鏡 和 極紫外（EUV）球面反射鏡
備有現(xiàn)貨庫存
無最小起訂量、無鍍膜批次費用
型號
| 產品編碼 | 標題 |
| #16-765 | 25.4mm Dia., 19nm (65eV), 5° EUV/XUV Attosecond Multilayer Flat Mirror |
| #16-766 | 25.4mm Dia. x 250mm EFL, 19nm (65eV), 5° EUV/XUV Attosecond Multilayer Concave Mirror |
| #16-767 | 25.4mm Dia. x 500mm EFL, 19nm (65eV), 5° EUV/XUV Attosecond Multilayer Concave Mirror |
詳細資料
UltraFast Innovations (UFI)的極紫外光(EUV/XUV)阿秒多層反射鏡設計用于阿秒脈沖的轉向、聚焦和整形。他們的多層膜中心位于65eV（19nm），帶寬為6eV（1.8nm），為 S 偏振光提供38%的峰值反射率。這些反射鏡支持持續(xù)時間為330阿秒的極紫外（EUV）脈沖。 UFI極紫外（EUV/XUV）阿秒反射鏡是基于高次諧波（HHG）、自由電子激光器（FEL）或其他量子光學應用產生和整形阿秒脈沖的理想選擇。
原子般精密的離子束沉積可以獲得原子般光滑的鍍膜。這些反射鏡能夠在不斷增長的應用空間中高效精確地控制波長和光譜相位。亞秒科學突破了超快激光器的極限，提供了接觸一些最基本的科學過程的機會，如：電子的運動。極紫外（EUV）反射鏡也被稱為XUV/軟X射線反射鏡。極紫外（EUV）阿秒多層反射鏡背后的物理原理是來自多層膜堆疊的每個界面反射和散射 EUV 輻射的干涉。可提供直徑為25.4mm的平面反射鏡和凹面反射鏡；如果您的應用需要定制中心能量、帶寬或其他規(guī)格的極紫外（EUV）多層反射鏡，請與我們聯(lián)系。
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